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LLPLD-450型双室激光镀膜装备
编号:SN20151013153114148
种别:激光镀膜装备
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        用于发展光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜质料,适用于发展下熔点、多元素及含有气体元素的庞大层状超晶格薄膜质料。普遍应用于大专院校、科研院所停止薄膜质料的科研取小批量制备。

     

    装备构成

        体系由实空腔室(主溅射室、进样室)、样品通报机构、样品架、扭转靶台、真空排气、真空丈量、电器掌握、配气、计算机控制等各部分构成。

     

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